壓電物鏡掃描器是徑向極化壓電材料的薄圓管體，具有四個外部電極和連續(xù)的內(nèi)部電極。當(dāng)電壓施加到外部電極之一時，相應(yīng)區(qū)域的致動器管壁膨脹，這引起管尖的垂直收縮和大的橫向偏轉(zhuǎn)。圓周電極可用于垂直或徑向伸展和收縮。
壓電物鏡掃描器在驅(qū)動內(nèi)部電極配置中，X和Y電極以標(biāo)準(zhǔn)方式相等且相反極性的電壓驅(qū)動。通過向內(nèi)部電極施加滿量程負(fù)電壓，獲得等于垂直掃描范圍的一半的收縮。該方法利用壓電材料更高的正電場強度，其通常是負(fù)電場強度的五倍。要注意不要對內(nèi)部電極施加正電壓，因為這會導(dǎo)致去極化。
壓電陶瓷管配有鎳薄膜電極。內(nèi)部電極是連續(xù)的，外部電極是四分區(qū)的。通過用稀硝酸蝕刻可以去除表面電極?？筛鶕?jù)要求提供定制電極配置。在需要高磁場的應(yīng)用中，鎳電極可以用銅或金代替。銅是一種經(jīng)濟(jì)的選擇，但金電極具有優(yōu)異的耐腐蝕性和導(dǎo)電性。
納米光刻技術(shù)是制作納米結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)，激光光刻是納米光刻最主流的方式之一，特別是光子晶體，超材料的發(fā)展在很大程度上依賴于激光光刻技術(shù)的進(jìn)步，納米結(jié)構(gòu)器件必將成為未來集成電路的基礎(chǔ)。
光刻過程是指放置在電動平臺上的光刻膠基片隨著電動平臺的轉(zhuǎn)動和平移，由聲光調(diào)制器控制光束的強弱對光刻膠進(jìn)行變劑量曝光，通常電動平臺的定位精度達(dá)到微米或亞微米量級。然而由于慣性、靜摩擦、松動等所造成的電動平臺螺距誤差與偏移，將直接影響著系統(tǒng)的性能和光刻元件的質(zhì)量。
